应 用：

• 高端装饰彩色膜、防指纹膜。
  
  金色系（氮化钛、氮化锆、氮碳化钛）。
  
  黑色系（碳化钛、碳化铬、碳化钨、类金刚石）、
  
  银色、蓝色、咖啡色及杂色等

技术特点：

• 工艺易调整、重复性强，膜层均匀细腻、膜层光亮度佳、
  
  不易划伤、耐磨损、长久使用不变色。能耗低、高性价比、
  
  占地面积小、丰富的膜层色彩种类、易操作和维护

关键数据：

• 真空室尺寸：可根据客户需求定制
  
  全自动电控系统：触摸屏智能界面

设备尺寸：

• 4000(L)×3600(W)×2400(H)

应 用：

• 泡沫镍（混动汽车电池材料）、金属镀膜、导电薄膜

技术特点：

• 六个平面溅射工位、可实现双面镀膜、具备往复连续概念、
  
  可实现灵活多层膜系、可兼容多种柔性材料、全自动镀膜过程

关键数据：

• 典型基材类型：PE、泡沫塑料
  
  基材卷径φ1050mm
  
  卷绕速度5米/分

设备尺寸：

• 4000(L)×3600(W)×2400(H)

应 用：

• 印刷包装膜、金银线、包装纸、电容膜、柔性电路板

技术特点：

• 12个溅射靶，可一次实现多种材料多层镀膜可兼容多种柔性材料

关键数据：

• 典型基材类型：PET、PI、CPP、BOPP、PCV
  
  镀膜幅宽可达1600mm
  
  基材卷径可达700mm
  
  卷绕速度5米/分
  
  镀膜方式：单面
  
  基材的厚度PET&PI最薄可达12μm

设备尺寸：

• 5000(L)×4000(W)×4000(H)

应 用：

• TFT、LCD、太阳能等光学、电子薄膜。可镀制ITO、AZO、Nb2O5、
  
  iO2、Al2O3、TiO、ZrO等氧化物，也可镀制AlN、SiN、ZrN、
  
  TiN等氮化物，还可镀SiAl合金、Mo、Cr、Ti、Zr等纯金属薄膜

技术特点：

• 模块化设计、进口组件高端配置、基片架自动回程、控制系统采用
  
  PC+PLC自动控制、阴极可选（平面或者旋转阴极）

关键数据：

• 基片尺寸：最大可达2200×2500
  
  节拍：最快速度可实现35’一个节拍
  
  镀膜方式：单、双面

设备尺寸：

• 设备定制

应 用：

• 手机结构件装饰膜、光学膜

技术特点：

• 12穴大型坩埚，可实现多层镀膜
  
  高精度控制工件高速旋转
  
  实时监控光学膜厚

关键数据：

• 设备最大内径φ2700mm
  
  镀膜方式：单面

设备尺寸：

• 5000(L)×4000(W)×3000(H)

应 用：

• 模具、刀具或汽车、缝纫机等零配件表面沉积耐磨涂层
  
  和润滑涂层的DLC涂层

技术特点：

• 涂层产品表面硬度可大幅提高、达到2500HV以上
  
  并拥有极低的摩擦系数（＜0.1）
  
  明显减少加工中产生的刮痕及摩擦，大幅提高产品质量
  
  四支平面靶及两支离子源：可按需配置平面靶及离子源数量

关键数据：

• 真空室容积：φ1000*1000
  
  工位：18个，或按需提供

设备尺寸：

• 3820(L)×2980(W)×2300(H)

应 用：

• 该系列采用动态双驱动磁控阴极电弧技术，离化率高。可制备TiN、CrN、TiAlN、 AlTiN、AlCrN、AlCrSiN等单层或多层膜系。高效的涂层前离子刻蚀技术，保证 了涂层的结合力及性能。该系列设备在镀膜过程中无需打底层（过渡层），直接 成膜，沉积效率高

技术特点：

• 阴极电弧：φ160mm双驱动动态磁控阴极电弧×6
  
  平面矩形气体离子源

关键数据：

• 真空室容积：φ1250*1100
  
  工位：10个，或按需提供

设备尺寸：

• 3820(L)×2980(W)×2300(H)